SK生产厂家之一天津中环电炉-CVD管式炉-石墨稀炉，目前该公司发布全新CVD系统，CVD管式炉、CVD系统炉、系统CVD、管式CVD炉、真空CVD系统 ，有效期至2015年07月30日，公司所在地为天津市北辰区，详细地址为天津市北辰经济开发区双川道十一号。
SK简介：
CVD系统设备由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产，CVD系统除了主要应用在碳纳米材料制备行业外，现在正在使用在许多行业，包括纳米电子学、半导体、光电工程的研发、涂料等领域
CVD成长系统是利用气态化合物或化合物的混合物在基体受热面上发生化学反应，从而在基体表面上生成不挥发涂层的一种薄膜材料制备系统
CVD系统产品的特点：
1 CVD系统兼容、常压、微正压多种主流的生长模式
2 CVD系统可以在1000Pa-0.1Pa之间任意气压下进行石墨烯的生长
3 CVD系统使用计算机控制，可以设置多种生长参数
4 CVD系统可以制备高质量，大面积石墨烯等碳材料，尺寸可达数厘米，研究动力学过程
5 CVD系统沉积效率高；薄膜的成分精确可控，配比范围大；厚度范围广，由几百埃至数毫米，可以实现厚膜沉积且能大量生产
CVD石墨烯炉、CVD管式炉、气相沉积炉、真空CVD系统CVD系统设备由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产，CVD系统除了主要应用在碳纳米材料制备行业外，现在正在使用在许多行业，包括纳米电子学、半导体、光电工程的研发、涂料等领域
CVD成长系统是利用气态化合物或化合物的混合物在基体受热面上发生化学反应，从而在基体表面上生成不挥发涂层的一种薄膜材料制备系统
CVD系统产品的特点：
1 CVD系统兼容、常压、微正压多种主流的生长模式
2 CVD系统可以在1000Pa-0.1Pa之间任意气压下进行石墨烯的生长
3 CVD系统使用计算机控制，可以设置多种生长参数
4 CVD系统可以制备高质量，大面积石墨烯等碳材料，尺寸可达数厘米，研究动力学过程
5 CVD系统沉积效率高；薄膜的成分精确可控，配比范围大；厚度范围广，由几百埃至数毫米，可以实现厚膜沉积且能大量生产
CVD石墨烯炉、CVD管式炉、气相沉积炉、真空CVD系统地址：天津市北辰经济开发区双川道11号 销售专员：秦小姐 电话：15122725930 固话：022-26980130 邮编：300403 E-MAIL: 2258734449@qq.com CVD炉
目前天津中环电炉-CVD管式炉-石墨稀炉主要所属行业有（仪器仪表 化工）；本公司是一家集研发、生产制造、营销服务为一体的专业的实验室电炉工作系统解决方案的提供者。作为专业实验室电加热设备的生产厂家，在实验室电炉行业国内市场一直保持着领先地位，并成为一流品牌。我们的产品畅销国内市场，同时也部分出口海外。国内众多的个大知名院校、国家级科研院所、重点实验室、医疗实验室 022-26980130 15122725930
